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创造性评判——最接近现有技术的考量因素

日期:2017-03-14 来源:专利复审委 作者: 浏览量:
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  在现有技术中存在着与发明要解决的技术问题相同或相似的技术问题是确定某一现有技术是否适合作为最接近的现有技术的重要考虑因素。虽然很多时候与发明具有较多相同技术特征的技术方案容易成为最接近的现有技术,但若该现有技术根本不涉及发明所要解决的技术问题,则二者之间的区别技术特征已经导致技术方案的实质发生变化。一般来说,这种现有技术难以指引本领域技术人员显而易见地获得发明的技术方案。 

  第40348号复审决定 (200680014621. 4) 涉及的发明要求保护一种香波组合物,其将脂肪链烷醇酰胺用作溶剂,使固体溶质溶剂化,以形成液态且易于流动的均匀组合物,还可包含余量的水。该技术方案实质上是采用了特定的有机溶剂,充分溶解香波的有效固体成分,形成香波的高浓度溶液,使得香波更加浓缩且使于实际使用。对比文件1公开的香波组合物中亦包含相同组分,只是各组分的含量与发明区别较大。决定认定,以对比文件1为代表的现有技术,香波组合物以水为主要组分,其中固体溶质及脂肪链烷醇酰胺的含量均远小于本发明;所描述的可溶或微溶于水的固体溶质通常也不表示其形成了含水真溶液,而是形成了含水的分散或乳化混合物,其目的在于提供一种具有良好调理效果,并对皮肤剌激性较低的香波。也就是说,该技术方案实质上是采用水作为溶剂形成香波的低浓度悬浊液或者乳浊液,使香波适于护理头发并降低皮肤剌激,完全不涉及溶解香波中固体溶质以及浓缩有效成分的技术问题。在要解决的技术问题不同的前提下,本领域技术人员不会想到进一步提高对比文件1中固体溶质的含量,即使面对进一步提高固体溶质含量的技术问题,也不会想到通过提高脂肪链烷醇酰胺的含量使固体溶质溶剂化。基于两者基本技术问题及技术构思均差异较大,本领域技术人员难以在该现有技术的基础上显而易见地得到发明的技术方案。 

  最接近的现有技术应当是一项发明创造对现有技术进行改进的起点。无论技术领域是否相同,均客观存在着需要解决多种不同技术问题的情形。若现有技术涉及的技术问题与发明不一致,且二者出于解决不同的技术问题的需要采用不同、甚至相悖的技术构思时,本领域技术人员通常不会关注这样的现有技术,更不会考虑将该现有技术作为改进起点以获得发明。 

  在第106894号复审决定 (201080042630.5) 涉及的案件中,权利要求6要求保护一种抗微生物组合物,对比文件1涉及一种杀菌剂,两者均属于施用于相同对象的杀菌剂。复审决定认为,申请基于现有的表面消毒剂不能快速起效的不足,通过选择将丁香酚与特定量的百里酚和萜品醇组合,同时配制一定量的表面活性剂和水制得表面抗微生物组合物,来达到施用至人体、物体表面后快速起效的效果,几种活性成分组合起到了协同效果;对比文件1基于现有的用于治疗目的的抗菌剂存在毒性、不稳定、吸收性不足从而治疗效果不佳 的缺陷,通过配制包含占主要用量的多种烃类物质和平衡液制得抗菌剂,同时强调不宜选择水作为溶剂,最终实现了渗透至皮下组织杀灭病原体、且长达一周或一月仍然起效的技术效果;由于短期起效与长期起效、表面杀菌与渗透至皮下组织杀菌是不同的技术问题,虽然两者均属于广义上的杀菌技术领域,但申请与对比文件1出于解决不同的技术问题,采用了方向不同的技术构思,甚至在载体的选用上还存在相悖的情形,申请与对比文件1的整体技术发展方向已不相同,本领域技术人员不会想到从对比文件1长期起效、渗透至皮下组织杀灭病原体的抗菌剂出发进行改进,以期获得申请快速起效、表面杀菌的抗微生物组合物。 

  首先从与发明相同或相近的技术领域中寻找最接近的现有技术,是本领域技术人员最常见的选择,整体上讲这是获取最接近现有技术最有效的途径。但是,技术领域相同或相近并不构成绝对的限制,技术问题以及 功能的相似性,同样足以引导本领域技术人员在此基础上进行进一步的改进。例如,虽然发明与现有技术的技术领域不同,但若二者基于同一原理、以基本相同的技术手段解决相同或相似的技术问题,则技术领域不同的事实并不会阻碍本领域技术人员基于技术问题或功能的指引到相关技术领域找到该现有技术,将其作为通向发明技术方案的起点。特别是,当面对技术发展快、技术领域进一步细分、领域交叉越来越多的状况时,情况更容易如此。 

  第40592号复审决定 (200810070675.8) 涉及保护一种微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法,对比文件1公开了一种用激光照射对石英晶体进行微调的方法。对于"石英和陶瓷在用途、材料性质和工作信号频段方面都存在差别,属于不同领域产品"的观点,复审决定认为,虽然申请与对比文件1加工对象的性质和具体应用领域有差别,但激光微调刻蚀陶瓷和石英这样质地坚硬的材料的原理上是类似的,都是利用激光束可聚集成很小的光斑,当达到适当的能量密度时,可有选择地气化部分材料,精密调节微电子元器件,并且在涉及激光微调刻蚀技术的现有技术丈献中也已经给出该技术可通用于许多集成电路元器件的教导。这种技术问题与功能上的一致足以指引本领域技术人员以其作基础,进行进一步改进或适应性调整。