我将自主研制纳米级“光学卡尺”

日期：2016-10-12 来源：科技日报作者：浏览量：

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　　国家重点研发计划重大科学仪器设备开发项目“超光滑表面无损检测仪”研制工作，10月9日在成都启动。未来其将广泛用于微电子集成电路、太阳能电池基片，及大型高功率固体激光系统、空间光学系统等设备检验检测。

　　在集成电路、半导体等微电子芯片的基片制造，及激光器、空间望远镜等现代大型光学工程领域，超光滑表面无损检测设备就像一把“光学卡尺”，能够通过对弯曲度、表面质量等关键参数测量，极大提升我国上述领域的制造水平。由成都太科光电牵头研制的“超光滑表面无损检测仪”，将用于非透明物体超光滑表面，以及具有多层超光滑平行反射面透明物体的纳米级表面形貌高精密测量，其测量面积达到Φ150mm，测量精度达到1毫米至700微米。“较大检测面积和非接触式精准测量，是该设备的最大特点。”成都太科光电总经理赵智亮说，在纳米级材质的芯片检测中，任何接触都可能造成损伤，新仪器将以光学测量为基础，采用多表面分离算法，实现非接触式无损测量。同时，它还能在大型高功率激光系统、极紫外光刻、航空航天空间光学领域的大口径元件面形、材料特性等参数测量领域发挥作用。

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