被诉侵权人提出布图设计首次商用超两年抗辩的处理

近期，最高人民法院知识产权法庭对一起集成电路布图设计侵权纠纷案作出二审判决明确，在集成电路布图设计侵权案件审理中，被诉侵权人主张涉案布图设计不符合法定条件的，即使被诉侵权人并未提起撤销程序，法院也可就该布图设计是否具备权利基础、是否应在侵权诉讼中获得保护等依法进行审查。本案依据在案证据可认定涉案布图设计申请登记的时间已超过首次商业利用时间两年以上，不符合《集成电路布图设计保护条例》第十七条规定的登记条件，人民法院不予保护。

本案中，泽某公司是涉案布图设计权利人，其主张芯某公司和驰某公司生产、销售的被诉侵权芯片产品的布图设计与涉案布图设计在4个独创点上均相同。一审中，驰某公司认为其并未实际参与被诉侵权芯片的生产和销售，对被诉侵权芯片布图设计与涉案布图设计在4个独创点上均相同不持异议，芯某公司亦对泽某公司的主张表示认可，一审法院据此认定被诉侵权芯片的布图设计复制了涉案布图设计。同时，一审法院支持了芯某公司请求适用“现有布图设计”抗辩的主张，认为被诉侵权芯片布图设计为《集成电路布图设计审查与执法指南（试行）》（以下简称布图设计执法指南）所规定的“现有布图设计”，故芯某公司、驰某公司的被诉行为不侵害泽某公司的涉案布图设计专有权，判决驳回泽某公司的诉讼请求。

最高人民法院二审认为：关于布图设计执法指南规定的“现有布图设计”，应是在申请日或者首次商业利用日之前（以较前日期为准）公众能够获知的布图设计，可用于评判布图设计的独创性，但目前尚无可据此主张不侵权抗辩的明确规定。而且，该指南的性质为规范性文件，不宜直接作为人民法院作出民事裁判的依据。但是，本案依据在案证据可认定涉案布图设计申请登记时间已超过首次商业利用时间两年以上，不符合布图设计条例第十七条规定的登记条件，应不予保护。

二审判决指出，布图设计在登记时仅作初步审查，对于实质上是否符合法定条件，往往是在诉讼中因当事人提出异议、抗辩，根据当事人的举证才能作出认定。被诉侵权人主张权利人已登记的布图设计不符合法定条件的，法院可就该布图设计是否具备权利基础、是否应在侵权诉讼中获得保护进行适度审查，不必等待或要求被诉侵权人提起撤销程序。人民法院在此情况下所作的审查并非直接认定权利布图设计应否被撤销，而是仅就该登记布图设计能否在侵权诉讼中获得司法保护作出处理。如人民法院审查后认为主张权利的布图设计并不符合法定条件、存在严重权利瑕疵的，则不应在侵权诉讼中给予保护。

【附件】（2025）最高法知民终452号二审判决书