纽约州立大学研究基金会起诉日本JSR

中国知识产权律师网从路透社获悉，近日，一份法庭文件显示，纽约一大学研究基金会对日本芯片材料制造商JSR 提起诉讼，指控JSR未经许可将其技术商业化。

JSR是一家日本顶级的光阻剂制造商，光阻剂是一种用于芯片制造的化学品，其美国子公司Inpria制造用于极紫外(EUV)光刻的金属氧化物抗蚀剂，用于生产先进芯片。

纽约州立大学研究基金会表示，其研究人员在氧化锡金属光刻胶方面的研究取得了进展，而Inpria正在未经许可将其知识产权商业化。

JSR对路透社表示，该公司认为该诉讼毫无根据，内部调查并未发现与Inpria有关的任何不当行为。

“Inpria是一所大学的前身，在金属氧化物的学术研究方面有着深厚的根基，可以追溯到20年前，”JSR说。

去年6月，JSR同意由一家政府基金收购，这一交易令人意外，一些行业高管质疑政府干预的必要性。

该研究基金会表示，它正在寻求初步禁令，以防止JSR将有争议的专利转让给日本投资公司(JIC)。据悉，其知识产权的价值已达到24亿至43亿美元。（编译自：路透社）